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    6. mos管飽和區(qū)條件,場效應(yīng)管飽和區(qū)介紹
      • 發(fā)布時(shí)間:2025-05-16 18:27:24
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      mos管飽和區(qū)條件,場效應(yīng)管飽和區(qū)介紹
      場效應(yīng)管飽和區(qū)解析
      一、場效應(yīng)管飽和區(qū)概述
      場效應(yīng)管飽和區(qū)在場效應(yīng)管輸出特性曲線中有著關(guān)鍵地位。當(dāng)漏源電壓(U_{DS})處于較大值時(shí),漏極電流(I_D)不再顯著依賴于 U_{DS} 的增加,此時(shí)對應(yīng)的部分即為場效應(yīng)管飽和區(qū),因特性曲線近乎水平,所以也被稱為 “恒流區(qū)”,主要反映場效應(yīng)管預(yù)夾斷后 I_D 與 U_{DS} 的關(guān)系。
      mos管飽和區(qū)
      二、MOS 管飽和區(qū)工作條件
      閾值電壓
      MOS 管進(jìn)入飽和區(qū)的前提是柵極電壓要超過閾值電壓,這是 MOS 管的核心參數(shù)之一,對管子的工作狀態(tài)起決定性作用。
      漏極電壓
      在飽和區(qū)工作狀態(tài)下,漏極電壓維持在較低水平且變化范圍小。原因在于飽和區(qū)時(shí) MOS 管導(dǎo)通電阻低,進(jìn)而使漏極電壓相對較小。
      飽和電壓
      MOS 管飽和區(qū)與導(dǎo)通區(qū)之間存在臨界電壓,即飽和電壓。
      恒流區(qū)
      當(dāng) V_{GS} 一定,且 V_{DS} 大于 V_{GS} - V_{TH}(V_{TH} 代表開通閾值電壓)時(shí),漏極電流 I_D 保持恒定,不隨 V_{DS} 增大而變化,此現(xiàn)象即為飽和。
      三、場效應(yīng)管飽和區(qū)的電壓與電流條件
      電壓條件
      飽和區(qū)時(shí),場效應(yīng)管的柵極 - 源極電壓(V_{GS})應(yīng)小于或等于臨界電壓(V_{TH}),同時(shí)柵極 - 漏極電壓(V_{DS})需大于或等于零。這樣的電壓條件有助于場效應(yīng)管導(dǎo)通狀態(tài)的穩(wěn)定,實(shí)現(xiàn)飽和區(qū)工作。
      電流條件
      在飽和區(qū),場效應(yīng)管漏極電流(I_{DS})應(yīng)大于或等于飽和電流(I_{DSAT}),而柵極 - 源極電流(I_{GS})要小于或等于零。滿足這些電流條件,能夠確保場效應(yīng)管在飽和區(qū)工作時(shí)的穩(wěn)定與可靠。
      四、MOSFET 飽和條件及狀態(tài)
      飽和條件
      mos管飽和區(qū)
      當(dāng) D 極與 S 極處于導(dǎo)通狀態(tài)時(shí),滿足以下條件 MOSFET 達(dá)到飽和狀態(tài):
      V_{GS} ≥ V_t;
      V_{DS} ≥ V_{GS} - V_t。
      僅滿足第一個(gè)條件而未滿足第二個(gè)條件時(shí),MOSFET 處于未飽和狀態(tài)。
      未飽和狀態(tài)
      mos管飽和區(qū)
      若電路未同時(shí)滿足上述兩個(gè)條件,則 MOSFET 處于未飽和狀態(tài),此時(shí)其工作特性與飽和狀態(tài)存在明顯差異。
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